近来，比利时微电子研讨中心的A. Potocnik及其研讨团队获得一项新进展。经过不懈努力，他们完成300毫米晶圆上超导量子比特的先进CMOS制作。相关研讨效果已于2024年9月18日在世界威望学术期刊《天然》上宣布。
本研讨展现了选用工业制作办法，在300毫米互补金属氧化物半导体（CMOS）中试线上制作的超导传输子量子比特，其弛豫时刻和相干时刻均超越100微秒。研讨人员供给了整个晶片上的大规模统计数据，包含相干性、良率、变异性和老化状况，证明了本办法的有效性。
所选用的工业级制作工艺仅运用光学光刻和反应离子刻蚀，其功能和良率与选用金属剥离、斜角蒸腾和电子束刻写的传统实验室技能适当。此外，该工艺还具有经过三维集成和更多工艺优化完成进一步扩展的潜力。这一效果标志着一种代替性、新颖且真正与CMOS兼容的大规模制作办法的面世，为超导量子核算处理器的制作拓荒了新途径。
据悉，超导量子比特技能的开展已展现出构建有用量子核算机的巨大潜力。跟着量子处理器复杂性的继续不断的添加，对严厉制作公役的需求变得益发要害。运用先进的工业制作工艺有助于完成必要的制作操控水平，以支撑量子处理器的继续扩展。但是，现在这些工业工艺没有优化以出产高相干性器材，也并未先验性地与常用的超导量子比特制作办法兼容。
Nature：《天然》，创刊于1869年。隶属于施普林格天然出书集团，最新IF：69.504
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